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    H94-35型4″雙面光刻機

    更新:2015/2/6 10:36:57      點擊:
    • 品牌:   SVC
    • 型號:   H94-35型
    • 市場價:    元
    • 優惠價:    元 (已有 0 人購買)
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    產品介紹
     
    主要用途:
        主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路的研制和生產。

    工作方式:
        本機采用版—版對準雙面同時曝光方式,亦可用于單面曝光。

    主要構成:
        主要由高精度對準工作臺、Z軸升降機構、雙視場CCD顯微顯示系統)、二臺多點光源蠅眼式曝光頭、真空管路系統、氣路系統、直聯式真空泵、防震工作臺等組成。

     

    CCD顯微系統|X、Y、Q對準工作臺|Z軸升降機構


    主要功能特點
    1.適用范圍廣
      適用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
    2.結構先進
       Z軸采用滾珠直進式導軌和可實現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構,真空吸版,防粘片機構。
    3.操作簡便
       X、Y移動、Q轉、Z軸升降采用手動方式;吸版、反吹采用按鈕方式,操作、調試、維護、修理都非常簡便。
    4.可靠性高
       采用進口電磁閥、按鈕、定時器;采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的零件加工,使本機具有非常高的可靠性。


    主要技術指標

    ◆曝光類型:單面對準雙面一次曝光;
    ◆曝光面積:≥φ115mm;
    ◆曝光不均勻性:φ100mm內≤±3%;
    ◆曝光強度:≥20mw/cm2(365nm; 404nm; 435nm的組合紫外光);
    ◆曝光分辨率:≤1μm;
    ◆曝光模式:雙面同時曝光;
    ◆對準精度:上版與下版的對準精度≤±3μm;
    ◆對準范圍:X:±5mm   Y:±5mm;
    ◆旋轉范圍:Q向旋轉調節≥±5°;
    ◆最大升降:≥20mm;
    ◆密著曝光方式:密著曝光可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;
    ◆顯微系統:雙視場CCD系統,顯微鏡60X~400X連續變倍(物鏡1.5X~10X)
       顯微鏡掃描范圍:X:±40mm ,  Y:±35mm;雙物鏡距離可調范圍:25mm~150 mm,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;

    ◆掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″;
    ◆基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″;
    ◆基片厚度:≤5 mm
    ◆曝光燈功率:直流2×350W;
    ◆曝光定時:0~999.9秒可調;
    ◆電源:單相AC220V  50HZ ,功耗≤1.5KW;
    ◆潔凈壓縮空氣壓力:≥0.4MPa;
    ◆真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;
    ◆尺寸: 985mm(長)×680mm(寬)×1800mm(高);
    ◆重量:約180Kg。

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