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    H94-40型4″半自動光刻機

    更新:2015/2/6 10:54:30      點擊:
    • 品牌:   SVC
    • 型號:   H94-40型
    • 市場價:    元
    • 優惠價:    元 (已有 0 人購買)
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    產品介紹

    主要用途
    光刻機是光刻工藝過程的重要設備,本機型主要用于中小規模集成電路標準芯片的批量生產。
    由于本機采用“蠅眼”式多點光源紫外曝光、三點式自動找平、微“漂移”式接觸分離、電動步進式切斯曼對準、自動裝卸片及自動預對準等先進機構和技術,使得本機具有:精度高、可靠性高、操作維修方便 、生產效率高等特點。
     

    H94-40型4寸半自動光刻機簡介

     


    技術參數:

    1.工作方式:盒到盒自動傳片,一次曝光全自動,套刻曝光半自動,單面曝光;
    2.曝光面積:≥φ115mm;
    3.曝光不均勻性:≤±3%;
    4.曝光強度:≥20mw/cm2;
    5.曝光分辨率:1μm;
    6.曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光模式;
    7.顯微鏡掃描范圍:X:±40mm   Y:±35mm;
    8.對準范圍:X、Y粗調±3mm、細調±0.3mm ;Q調節±3°;
    9.對準精度:1μm;
    10.分離量;0~50μm可調;
    11.接觸-分離漂移:≤1μm;
    12.曝光方式:密著曝光,可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;
    13.找平機構:三點式自動找平;
    14.顯微系統:雙視場CCD系統,顯微鏡45X~300X連續變倍(物鏡1.1X~7.5X),
    雙物鏡距離可調范圍:11mm~100 mm,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;
    15.掩模版尺寸:3″×3″(或2.5″×2.5″)、4″×4″、5″×5″;
    16.基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″;
    17.基片厚度:≤5 mm;
    18.曝光燈功率:直流350W;
    19.曝光定時:0~999.9秒可調;
    20.對準方式:電動步進式切斯曼對準機構,節距0.5um;
    21.曝光頭轉位:氣動;
    22. 生產節拍:14秒+曝光時間+對準時間;
    23.電源:單相AC220V 50HZ ,功耗≤1KW;
    24.潔凈空氣壓力:≥0.4MPa;
    25.真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;
    26.尺寸: 1300mm(長)×785mm(寬)×1650mm(高);
    27.重量:約220Kg。
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