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    H94-31型4″雙面光刻機

    更新:2015/2/6 10:25:52      點擊:
    • 品牌:   SVC
    • 型號:   H94-31型
    • 市場價:    元
    • 優惠價:    元 (已有 0 人購買)
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    產品介紹

     

    主要用途
    主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路的研制和生產。
     

    工作方式
    本機采用版—版對準雙面同時曝光方式,亦可用于單面曝光。
     

    主要構成
    主要由高精度對準工作臺、Z軸升降機構、雙視場CCD顯微顯示系統)、二臺多面反射式曝光頭、真空管路系統、氣路系統、直聯式真空泵、防震工作臺等組成。

     

    CCD顯微系統|X、Y、Q對準工作臺|Z軸升降機構

     

    主要功能特點
    1.適用范圍廣
    適用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
    2.結構先進
    Z軸采用滾珠直進式導軌和可實現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構,真空吸版,防粘片機構。
    3.操作簡便
    X\Y移動、Q轉、Z軸升降采用手動方式;
    吸版、反吹采用按鈕方式,操作、調試、維護、修理都非常簡便。
    4.可靠性高
    采用進口電磁閥、按鈕、定時器;采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的零件加工,使本機具有非常高的可靠性。

     

    主要技術指標
    ◆曝光類型:單面對準雙面曝光
    ◆曝光面積:≥φ120mm
    ◆曝光不均勻性:≤±6%
    ◆曝光強度:≥5mw/cm2(365nm、404nm、435nm的組合紫外光)
    ◆曝光分辨率:≤2μm
    ◆曝光模式:雙面同時曝光
    ◆對準精度:上版與下版的對準精度≤5μm
    ◆對準范圍:X:±5mm Y:±5mm
    ◆旋轉范圍:Q向旋轉調節≥±5°
    ◆最大升降:≥20mm
    ◆密著曝光方式:密著曝光可實現硬接觸、 軟接觸和微力接觸曝光;

    ◆顯微系統:雙視場CCD系統,顯微鏡45X~300X連續變倍(物鏡1.1X~7.5X),顯微鏡掃
    描范圍:X:±40mm, Y:±35mm;雙物鏡距離可調范圍:11mm~100 mm,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;
    ◆掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″
    ◆基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″
    ◆基片厚度:≤5 mm
    ◆曝光燈功率:直流2×200W
    ◆曝光定時:0~999.9秒可調
    ◆電源:單相AC 220V 50Hz 功耗≤1kW
    ◆潔凈壓縮空氣壓力:≥0.4Mpa
    ◆真空度:-0.07Mpa~-0.09Mpa
    ◆尺寸: 985×680×1450 (L×W×H)mm;
    ◆重量:~160kg

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